동국대(총장 윤재웅) 반도체과학과 장재원 교수 연구팀(조정식 박사과정생(제1저자), 장재원 교수(교신저자))이 sub-50 nm 급 저비용 리소그래피 기술을 개발했다.

반도체 기판 위에 미세 패턴을 형성하는 리소그래피 기술은 반도체 산업의 핵심 기술이다. 고성능 전자 장치에 대한 수요가 증가함에 따라 더욱 고 집적화된 반도체가 필요하며, 이를 위해서는 수 나노미터에서 수십 나노미터의 높은 해상도를 가진 리소그래피가 필요하다.

하지만 수십 나노미터 해상도의 리소그래피 기술을 실현하기 위해서는 초고가의 장비와 재료, 진공 및 클린룸과 같은 특수한 환경, 그리고 복잡한 프로세스가 필요하고, 이러한 기술이 적용된 전자 장치의 가격은 고가로 이어진다.

이에 따라 많은 국가/기업/연구자들은 고해상도의 저비용 리소그래피 기술개발을 위해 노력하고 있다. 기존과 다른 새로운 접근법의 저비용 리소그래피 기술이 개발된다면 공정비용을 절감시킨 만큼 반도체의 가격을 낮춤과 동시에, 질 좋은 고성능 전자 장치를 가정으로 제공하며 반도체 업계의 ‘게임 체인저’가 될 것으로 예상되고 있다.

<img alt='동국대 장재원 교수 연구팀, sub-50 nm 급 저비용 리소그래피 개발 with a sacrificial layer”라는 제목으로 나노과학 및 기술 분야  [IF=13.3]’에 게재됐다.