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신임 중앙지검장 출근 첫날‥김건희 수사라인 대면 보고받아
- 관련게시물 : ‘김건희 수사’ 서울중앙지검장 전격 교체…이창수 임명신임 이창수 서울중앙지검장이 취임 첫날인 오늘, 김건희 여사 관련 수사를 담당하는 부장 검사들부터 불러 가장 먼저 대면보고를 받은 것으로 확인됐습니다. 차장검사들까지 전부 교체된 상황인 만큼 앞으로 수사가 제대로 이뤄질지의 관건은 이들 부장검사들이 후속 인사에서 자리를 지킬 수 있을지 여부로 보이는데요. 일단 이 지검장은 출근길에서 기자들에게, 김 여사 수사는 법과 원칙에 따라 하겠다고 말했습니다. 첫 출근길에 약식 기자회견을 자처한 이창수 신임 서울중앙지검장. 김건희 여사 소환 조사가 가능한지 묻자 이렇게 답했습니다. 지휘부 교체로 김 여사 수사에 차질이 있지 않겠냐는 질문에는 법과 원칙에 따라 하겠다고 했습니다. 자신이 친윤석열 검사로 불리는 데 대해서는 동의할 수 없다고 했습니다. 이 지검장은 윤석열 대통령의 검찰총장 시절 대검 대변인을 맡아 신임을 얻었습니다. 이 지검장은 취임 첫날 김 여사 관련 사건을 수사하는 부장검사들로부터 대면보고를 받은 것으로 확인됐습니다. 명품백 수수 의혹을 수사 중인 형사 1부와 도이치모터스 주가 조작 사건을 수사하고 있는 반부패수사2부입니다. 김 여사 소환 조사의 열쇠를 쥐고 있는 중간간부들입니다. 후속 검찰 인사에서 이들의 교체 여부가, 김 여사 수사의 방향을 짐작게 하는 가늠자 역할을 할 것으로 보입니다. 전부 물갈이된다면 이원석 검찰총장과 용산의 갈등설이 다시 불거질 거라는 관측도 나옵니다. 이원석 총장과 이창수 지검장의 첫 만남은 환영 오찬이었습니다. 이 지검장은 이 자리에서 수사 관련 얘기는 오가지 않았다고 했습니다. 조만간 있을 서울중앙지검장 주례 보고자리에서, 이 총장이 다시 철저하고 신속한, 명품백 수사를 지시할지 관심이 쏠립니다. 주목할 대목은 이 지검장이 취임 첫날 대면보고를 받은 3명의 부장검사 가운데는 앞서 언급한 김 여사 관련 2개 수사 부장 외에 반부패수사 1부장도 있었다는 겁니다. 반부패 1부장은 지난 대선 당시 윤석열 후보에 대한 의혹 보도를 한 언론사들을 대거 압수수색하며 수사해온 <대선 개입 여론 조작 사건 특별수사팀장>을 맡고 있기도 한데요. 검찰이 비판 언론과 야권에 대한 수사에도 속도를 낼 거라는 관측이 나옵니다. 이창수 서울중앙지검장은 문재인 전 대통령 옛 사위의 특혜 채용 의혹 사건을 서울중앙지검으로 가져올 수 있다는 가능성을 부인하지 않았습니다. 이 지검장은 전주지검장으로 있으면서 타이이스타젯 특혜 취업 의혹 수사를 지휘했습니다. 이상직 전 의원이 문 전 대통령 전 사위를 타이이스타젯 전무로 채용하는 대가로 중소벤처기업진흥공단 이사장에 임명된 게 아니냐는 것이 의혹의 핵심입니다. 한 검찰 관계자는 "울산시장 선거개입 사건도 서울로 가져와 수사를 확대했다"며 "전주지검 수사 담당자들이 중앙지검으로 발령될 경우 사건 이송 수순으로 봐야한다"고 말했습니다. 이 지검장은 민주당 전당대회 돈봉투 수사 등 야권 겨냥 수사에 대해서는 이렇게 답했습니다. 이 지검장은 오늘 반부패수사1부장의 대면보고도 받은 것으로 확인됐습니다. 해당 부장은 지난 대선 당시 윤석열 후보에 대한 의혹보도를 이유로 언론사들을 잇따라 압수수색한 특별수사팀장도 맡고 있습니다. 야권과 비판 언론을 향한 검찰 수사가 속도를 낼 거라는 관측이 나옵니다. 이번 검찰 인사에 대해 박성재 법무부장관은 자신이 주도한 거라며 대통령실로 향하는 파장을 차단했습니다. 이원석 검찰총장과 인사 시점을 두고서는 이견이 있었다는 점은 인정했습니다. 법무부는 수사 지연 우려를 의식한 듯 중간 간부들 인사를 다다음 주 월요일까지 마무리하는 방침을 세운 것으로 알려졌습니다. https://n.news.naver.com/article/214/0001349027https://n.news.naver.com/article/214/0001349030
작성자 : 정치마갤용계정고정닉
TEL 저온식각이 왜 혁명이냐면 (갑자기 초혁신 터졌다는 반도체업계 근황)
저온식각 일명 cryo etching은 201X년대부터 낸드 기술이 2D 한계에 봉착했을 때 꿈의 기술로 각광받았음그런데 일단 초저온 가스인 액화질소나 산소가 비싸고 공정 컨트롤의 난이도(극저온 칠러비용, 가스혼합비 등) 때문에 다들 개발에 성공하지 못했음그 와중에 TEL이 이번에 해당기술 개발에 성공해서 들고나온건데저온식각이 얼마나 쩌는지 알아보자식각 효율을 나타내는 숫자인 Etch Rate(줄여서 E/R)라는게 있음E/R = 식각 깊이(Å)/공정 시간(m)이라 얼마나 깊이 빠르게 식각을 쳐내느냐를 나타내는 E/R은 쓰루풋이 중요한 반도체 공정에서 중요한 숫자임왼쪽 파이차트: 일반 플라즈마 식각 가스 혼합비중간 파이차트: 연구단계의 저온식각 가스 혼합비 (1세대 저온식각)오른쪽 파이차트: TEL에서 완성한 저온식각 공정 장비 가스혼합비일반적인 식각보다 중간으로 가면 E/R이 2배가 되는데TEL은 중간과정보다 E/R 2배의 개쩌는 공정을 개발해냄E/R이 4배라는 말은 이론적으로 일반 낸드식각 공정보다 최대 4배로 빠르게 같은 깊이를 식각할 수 있다 or 같은 시간에 4배 더 깊이 식각 할 수 있다는 의미실제로는 식각 속도는 기존 공정보다 두배 빠르고 식각 깊이를 25% 더 깊게 에칭할 수 있다 하더라TEL의 주장에 따르면 10um 에칭하는데 33분이 소요되었으며 84% 탄소발자국 감소효과가 있었다고 함통상적인 플라즈마 공정은 7-8um 에칭하는데 1시간 남짓 걸림그림으로 보자면낸드가 이렇게 생겼는데 채널이 더 깊고 빨리 파짐 -> 낸드 단수 높히는데 예전에는 플라즈마 써서 고단화에 애 먹었는데 고단화 비교적 난이도 내려갈 예정TEL 자료 10um 뚫은 인증 + 깨끗하게 뚫린 바닥 사진 + 기술 세부자료불화수소 메인이라 탄소가스 사용절감으로 인한 ESG 점수는 덤결국 쓰루풋 포함 생산성 방면에서 저온식각이 고단 낸드 적층시 플라즈마 식각 대비 우위를 점하고 있기 때문에 현재 낸드식각 주류인 플라즈마 식각장비가 메인인 램리서치나 어플라이드는 TEL에게 고적층 낸드로 갈수록 마켓쉐어 많이 내줄 수 밖에 없다고 생각함. 좀더 자세한 이야기는 이 분이 글 잘 써놨더라https://blog.naver.com/timesight/223163209160 극저온 식각(Etching)의 도입 : NAND 식각 시장에서 가져올 큰 변화극저온 식각 장비의 개발 도쿄일렉트론은 23.06.09에 극저온 식각 장비를 공식적으로 발표하였습니다. &quo...blog.naver.com
작성자 : 방자_올돌골고정닉
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